造出3nm芯片刻蝕機？

我國企業中微成功研制出3nm的刻蝕機，且相關技術已經進入了可以量產應用的階段，中國芯片有了重大突破，但這也更深刻地揭示出中國面臨的、不公正的光刻機之痛。

與名聲在外的光刻機相比，刻蝕機的名字確實相對低調，但這并不意味著刻蝕機不重要，只是因為中國已經擁有了先進的刻蝕機技術而已。客觀來說，刻蝕機是與光刻機相提并論的重要芯片加工機器，兩者的地位等同，在納米芯片大規模生產的規程中缺一不可。中微在刻蝕機領域的不斷研發、不斷開創，成功研發3nm刻蝕機確實是一件令人驚喜的好消息，真是振奮人心、振奮士氣。

先來簡要地介紹一下刻蝕機。

芯片加工大致可以分為兩個粗略的環節，一是把芯片工作所需要的芯片架構刻上去，二是要把可能會干擾芯片工作的無用內容消除掉。完成第一個工作的設備就是大名鼎鼎的光刻機，目前世界上最頂尖的光刻機企業來自荷蘭，而該企業的科技其實是雜交而來的（即融合了多個國家的多個技術）；完成第二個工作的設備就是今天提到的刻蝕機，中國企業在刻蝕機領域一直處于頂尖水平，曾多次突破美國的技術封鎖，如今更是再創新高。

中國刻蝕機成功追超世界頂尖水平，而光刻機依舊被美國卡住了脖子，這種悲劇更深刻地揭示出中國面臨的、不公正的、光刻機之痛。什么樣的痛苦？那就是在某些時刻、在某些領域，中國必須依靠自己的力量、依靠14億人的拼搏，追逐、趕上其他60億人的工作。

為什么這么說？這就要從刻蝕機與光刻機的異同說起。很多人都以為刻蝕機的技術要比光刻機簡單，但其實并不是這么一回事：光刻機和刻蝕機在技術難度上處于同一水平，只是在技術種類的多與少上有很大的差異，光刻機所需的技術種類要比刻蝕機更多。

光刻機需要什么？它需要工作臺、光矯正器、形狀設計裝置、能量控制裝置、能量探測裝置，nm級的掩膜設備，高精尖的復雜物鏡等多個頂尖的技術設備，涉及到的頂級技術非常多，目前沒有任何一個國家可以單獨拿出所有的技術。注意，不只是中國，沒有國家在以上所有的光刻機技術領域都處于頂級水平，大家都只是擁有其中的一部分，最后通過不同企業的合作來生產頂級光刻機。

相比之下，刻蝕機主要依靠基于感應耦合的等離子體刻蝕技術，主要的技術是高精尖的控制系統、各種射頻單元、頂級的光譜測量技術、阻抗監控以及探測技術、壓力控制以及質量控制器，它所需的頂級技術在數量上相對較少。因此，中國在經過努力之后，成功追趕上了世界頂級的水平。

刻蝕機和光刻機的對比清楚地告訴我們：不是中國人不努力，不是中國人不聰明，而是中國人需要做的事情太多了。光刻機的技術不是美國單獨研發的，而是美國以及眾多國家共同研發出來的，中國要追趕的也不是單單一個美國，而是世界上研發光刻機的所有國家，這注定是一個復雜而又艱巨的工作。

中國從不否認自身的不足，也不畏懼競爭者的強大，但中國的光刻機研發者們真的需要時間。

祝愿國產光刻機早日像刻蝕機那樣蓬勃發展、一飛沖天。